2015年10月18-20日 成(cheng)都

現(xian)代(dai)光學(xue)(xue)技術領域中，光學(xue)(xue)薄膜技術在需求(qiu)的牽引下已經成為產業化技術, 它已涉(she)及(ji)物理、化學(xue)(xue)(xue)(xue)(xue)、電子學(xue)(xue)(xue)(xue)(xue)、冶(ye)金(jin)學(xue)(xue)(xue)(xue)(xue)等(deng)(deng)學(xue)(xue)(xue)(xue)(xue)科，有著十分廣(guang)泛的應(ying)用(yong)，尤其是在國防、通訊、航空、航天、電子工業(ye)、光(guang)學(xue)(xue)(xue)(xue)(xue)工業(ye)等(deng)(deng)方面有著特殊(shu)的應(ying)用(yong)。為了推(tui)動我國高性能特種光(guang)學(xue)(xue)(xue)(xue)(xue)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)技術(shu)的發展(zhan)，中國光(guang)學(xue)(xue)(xue)(xue)(xue)工程學(xue)(xue)(xue)(xue)(xue)會聯合多家(jia)(jia)單位舉辦光(guang)學(xue)(xue)(xue)(xue)(xue)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)技術(shu)及(ji)應(ying)用(yong)研討會，將(jiang)邀(yao)請(qing)該領(ling)域的知名專(zhuan)(zhuan)家(jia)(jia)和(he)(he)學(xue)(xue)(xue)(xue)(xue)者(zhe)到會，并做專(zhuan)(zhuan)題講座(zuo)；向(xiang)從(cong)事高端光(guang)學(xue)(xue)(xue)(xue)(xue)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)制造和(he)(he)特性測試技術(shu)等(deng)(deng)科技人員介(jie)紹最(zui)新的光(guang)學(xue)(xue)(xue)(xue)(xue)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)技術(shu)進(jin)展(zhan)，并進(jin)一步(bu)深入交流(liu)和(he)(he)探討光(guang)學(xue)(xue)(xue)(xue)(xue)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)應(ying)用(yong)領(ling)域所取得的最(zui)新研究成(cheng)果(guo)。機會難得，誠(cheng)摯邀(yao)請(qing)光(guang)學(xue)(xue)(xue)(xue)(xue)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)技術(shu)領(ling)域的專(zhuan)(zhuan)家(jia)(jia)學(xue)(xue)(xue)(xue)(xue)者(zhe)及(ji)企業(ye)界人士一同(tong)聆聽大家(jia)(jia)報告、探討最(zui)新研究成(cheng)果(guo)。

歡迎相關(guan)領(ling)域的科研人員踴躍投(tou)稿。會(hui)議組(zu)委會(hui)屆(jie)時(shi)將推薦會(hui)議論文至(zhi)國(guo)家公開出版的優秀期刊(kan)（EI收錄）發表。

投稿須知：

會(hui)議邀請作(zuo)者將(jiang)原創的論文(wen)投往本會(hui)議，中英文(wen)稿兼(jian)收，全(quan)文(wen)投稿請于(yu)2015年10月10日(ri)之前登錄投稿網(wang)址：，注明2015薄膜會(hui)議。

論文發表：

·         英文(wen)稿件將被SPIE會議(yi)論文集收錄(lu)，會后兩個月出(chu)版，5個(ge)月EI檢(jian)索。

·         中文稿件推薦至《紅(hong)外與激(ji)光工程》（EI）、《光學精密(mi)工(gong)程》（EI）、《強激光與(yu)粒子(zi)束》（EI）、《太赫茲(zi)科(ke)學與電子信息學報(bao)》（科(ke)技(ji)核心期刊(kan)）、《中國光學》（科(ke)技(ji)核心期刊(kan)）正刊(kan)出版。

投稿截止時間(jian)：2015年10月10日(ri)(第一輪)

（無論(lun)有無投稿，均歡迎參會！）

主(zhu)辦(ban)單位：
中(zhong)國工(gong)程院(yuan)電子信息學部
國家自然基金委員會
中國光學工程學會
承辦(ban)單位：
中(zhong)國(guo)光(guang)學(xue)工程學(xue)會
中(zhong)國宇航學會光(guang)電技(ji)術專業委員會
大會主席：

莊松林 院士（上(shang)海理工大學）

特邀(yao)專家報告：

程(cheng)勇（解(jie)放軍武漢軍械士官(guan)學校），光(guang)(guang)學薄膜激(ji)光(guang)(guang)損傷研究

楊李銘（成都精密光學工程研(yan)究中心），

季一勤（航天三院8358所(suo)），
劉定權（上海技術(shu)物(wu)理研究所），空間應用(yong)中的紅外光學薄膜，

王多書（中國航(hang)天(tian)科技集(ji)團(tuan)公司510所），空間集成光(guang)學(xue)薄(bo)膜，

李剛（中科院大(da)連(lian)化物(wu)所），

易葵（中(zhong)科院上海光機(ji)所），

程(cheng)鑫彬(bin)（同濟大學），高損傷(shang)閾值(zhi)激光薄膜

羅暉(hui)（國防科技大學），

李斌成（電子科技大學），光腔衰蕩技術在高性能光學(xue)薄膜(mo)檢測(ce)中的應用(yong)

張大偉（上海(hai)理(li)工(gong)大學），

劉衛(wei)國（西安工業大學），薄膜(mo)微光學元件的制(zhi)備與應用鄭玉祥（復(fu)旦大學(xue)），

李紅(hong)東（吉林大學），

吳周令(ling)（合肥知(zhi)常光電技術(shu)），

王京(jing)獻（西安(an)北方杰(jie)瑞光電(dian)）